中微等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE(TM) 运抵中芯国际
本帖最後由 孤寂如雲 於 2012-3-26 21:01 編輯中微半导体设备有限公司（以下简称“中微”）于 SEMICON China 展会期间宣布，中微第二代等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE™ 正式装配国内技术最先进的集成电路芯片代工企业中芯国际，用于32纳米至28纳米及更先进的芯片加工。这是继去年 SEMICON West 展会期间 Primo AD-RIE™ 正式发布以来，中微 Primo AD-RIE™ 设备首次进入中国大陆客户生产线。目前，中微第一代等离子体刻蚀设备 Primo D-RIE™ 已在中国建立了稳固的市场地位。Primo AD-RIE™ 设备也已进入台湾客户的生产线。
http://finance.ifeng.com/usstock/realtime/20120320/5774355.shtml
32-28納米已經完全成功了。22-14納米也接近完全成功了。
美國Intel的概念是9納米，但價格不菲，且實施困難。
硅/矽的密度極限應該不低於9納米了。
希望中國可以將高密度晶片廉價化。
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